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| 氮化硼薄膜制备技术研究进展 | |
| 引用本文： | 贾铁昆,王为民.氮化硼薄膜制备技术研究进展[J].材料导报,2005,19(Z2):290-292. |
| 作者姓名： | 贾铁昆 王为民 |
| 作者单位： | 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070 |
| 摘 要： | 简述了氮化硼的优异性能和广阔的应用前景,概述了氮化硼薄膜的制备方法,分析了薄膜制备过程中的影响因素,最后对氮化硼薄膜今后的研究方向提出展望. |
| 关 键 词： | 氮化硼 薄膜 等离子体 物理气相沉积 化学气相沉积 |
Progress in Study on Preparation of Boron Nitride Film |
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| JIA Tiekun,WANG Weimin.Progress in Study on Preparation of Boron Nitride Film[J].Materials Review,2005,19(Z2):290-292. | |
| Authors: | JIA Tiekun WANG Weimin |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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