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高岭石插层过程的理论计算进展EI北大核心CSCD
引用本文:王杰,傅梁杰,杨华明.高岭石插层过程的理论计算进展EI北大核心CSCD[J].硅酸盐学报,2022(10):2790-2799.
作者姓名:王杰  傅梁杰  杨华明
作者单位:1.中国地质大学(武汉)纳米矿物材料及应用教育部工程研究中心430074;2.中国地质大学(武汉)材料科学与化学学院430074;3.中南大学资源加工与生物工程学院410083;
基金项目:矿物加工科学与技术国家重点实验室开放基金(BGRIMM-KJSKL-2022)。
摘    要:高岭石插层是实现高岭石高值化的一个重要调控手段。从理论计算的角度研究高岭石插层过程的原子、分子尺度的微观机制,是目前黏土矿物改性的一个重要研究手段和发展趋势。针对高岭石无机小分子、有机小分子和有机大分子插层3个研究方向的理论计算研究进展,进行了总结和归纳,并对高岭石插层的理论计算未来发展方向进行了展望。

关 键 词:矿物材料  高岭石  插层  理论计算  计算模拟
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