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| ASML推出创新光刻平台TWINSCAN NXT套刻精度及生产能力显著提高 | |
| 摘 要： | <正>光刻巨头ASML Holding NV(ASML)公司日期推出了创新光刻平台TWINSCAN NXT,套刻精度(overlay)及生产能力(productivity)显著提高,将有力推动半导体制程蓝图的前进。另外,ASML Research Review称,TWINSCAN NXT平台也适用于双图形曝光(double patterning)技术。TWINSCAN NXT平台具有创新的晶圆载物台设计, |
| 关 键 词： | 生产能力 套刻精度 NXT 平台 光刻 创新 半导体制程 |
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