直接在片子上曝光

正在向一微米和0.5微米级电路发展的半导体工业总是以相应的制造工艺作为其技术保障的。本文所研究的是作为亚微米器件制作方法的光学光刻法,电子束微光刻法,远紫外和X射线微光刻法的特性。