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| O^5＋离子入射在金属表面形成L壳层X射线产生截面的研究 | |
| 作者姓名： | 田野 常宏伟 杨浩智 杜树斌 杨治虎 |
| 作者单位： | [1]不详 [2]中国科学院近代物理研究所 |
| 摘 要： | 迄今为止，K壳层电离的研究已取得了长足的进展。人们已对各不同入射离子轰击各种靶元素，在很大的能区范围内测量了K壳层X射线产生截面，而L壳层的实验数据则不够完善。本实验测量了20-45MeV的O^5＋离子轰击金属元素Au，Nb，Cd，Fe和Ta靶所引起的L亚壳层X射线产生截面。 |
| 关 键 词： | 产生截面 金属元素 K壳层 X射线 O^5＋离子 入射 面形 离子轰击 |
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