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ITO和ZnO基底对电化学沉积氧化亚铜薄膜的形貌、结构的影响及作用机制
引用本文:王春祥 张青 薛敏钊 盛巧蓉 刘燕刚. ITO和ZnO基底对电化学沉积氧化亚铜薄膜的形貌、结构的影响及作用机制[J]. 感光科学与光化学, 2007, 25(1): 18-23
作者姓名:王春祥 张青 薛敏钊 盛巧蓉 刘燕刚
作者单位:上海交通大学化学化工学院,上海200240
摘    要:采用电化学恒电位沉积方法在ITO导电玻璃上和在ZnO薄膜上沉积氧化亚铜(Cu2O),并通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对晶体的微观结构和表面形貌进行了分析.在ZnO基底上沉积得到了纳米级的Cu2O粒子并且具有明显择优取向,而在ITO导电玻璃上仅得到粒径为2—5胛的Cu2O粒子,没有明显的择优取向,对薄膜的生长机理进行了讨论.

关 键 词:氧化亚铜 电沉积 薄膜 氧化锌
文章编号:1000-3231(2007)01-0018-06
收稿时间:2006-07-10
修稿时间:2006-08-14

Effects and Mechanism of ITO and ZnO Substrate on Surface Morgraphology and Structural of Electrodeposited Cu2O Thin Films
WANG Chun-xiang, ZHANG Qing, XUE Min-zhao, SHENG Qiao-mng, LIU Yan-gang. Effects and Mechanism of ITO and ZnO Substrate on Surface Morgraphology and Structural of Electrodeposited Cu2O Thin Films[J]. Photographic Science and Photochemistry, 2007, 25(1): 18-23
Authors:WANG Chun-xiang   ZHANG Qing   XUE Min-zhao   SHENG Qiao-mng   LIU Yan-gang
Affiliation:School of Chemistry and Chemical Engineering, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200240, P. R. China
Abstract:
Keywords:cuprous oxide   electrodeposition   thin films   zinc oxide
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