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| 片状扩散源在硅的磷扩散中的应用 | |
| 引用本文： | 石井正司,郡司挂维昭,尾形好雄,长谷川正志,趙文霞.片状扩散源在硅的磷扩散中的应用[J].电子器件,1979(Z1). |
| 作者姓名： | 石井正司 郡司挂维昭 尾形好雄 长谷川正志 趙文霞 |
| 作者单位： | 南京电气化学工业公司，南京电气化学工业公司，南京电气化学工业公司，南京电气化学工业公司 |
| 摘 要： | 向硅中进行杂质扩散,除了采用液态或气态杂质源外,还可以采用固体片状杂质源。已经证明,采用片状氮化硼能够进行稳定的B扩散(特别是大面积Si片,效果更为显著)。 我们以前曾经报道过采用片状氮化磷进行磷扩散的方法。本文再报道一种较稳定的扩散方法,采用含P_2O_5的片状扩散材料做为扩散源。 |
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