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片状扩散源在硅的磷扩散中的应用
作者姓名:石井正司  郡司挂维昭  尾形好雄  长谷川正志  趙文霞
作者单位:南京电气化学工业公司,南京电气化学工业公司,南京电气化学工业公司,南京电气化学工业公司
摘    要:向硅中进行杂质扩散,除了采用液态或气态杂质源外,还可以采用固体片状杂质源。已经证明,采用片状氮化硼能够进行稳定的B扩散(特别是大面积Si片,效果更为显著)。 我们以前曾经报道过采用片状氮化磷进行磷扩散的方法。本文再报道一种较稳定的扩散方法,采用含P_2O_5的片状扩散材料做为扩散源。

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