首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Al-K-Si掺杂残留量及其对钼丝再结晶温度的影响
引用本文:王勇,高家诚,李伟勤,周永贵,陈功明. Al-K-Si掺杂残留量及其对钼丝再结晶温度的影响[J]. 材料导报, 2007, 21(Z2): 450-452
作者姓名:王勇  高家诚  李伟勤  周永贵  陈功明
作者单位:1. 重庆大学科学与工程学院,重庆,400045
2. 自贡硬质合金有限责任公司技术中心,自贡,643011
摘    要:测试分析了不同掺杂量的材料经过还原和烧结后获得的Si、Al、K残留量,并对不同Si、Al、K掺杂量的钼丝的再结晶行为进行了研究.结果证明元素残留量随掺杂量的增加而增加,通过拟合得到了二者之间的数学关系.通过热分析发现,掺杂钼丝的再结晶温度比纯钼丝提高了550~600 ℃,而且再结晶温度随Si、Al、K掺杂含量的增加而升高.

关 键 词:掺杂钼  掺杂量  残留量  再结晶温度  二次再结晶

Remaining Amount of AKS Dopant and Its Effect on the Recrystallization Temperature
WANG Yong,GAO Jiacheng,LI Weiqin,ZHOU Yonggui,CHEN Gongming. Remaining Amount of AKS Dopant and Its Effect on the Recrystallization Temperature[J]. Materials Review, 2007, 21(Z2): 450-452
Authors:WANG Yong  GAO Jiacheng  LI Weiqin  ZHOU Yonggui  CHEN Gongming
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号