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非晶GaN薄膜的空间电荷限制电流特性
作者姓名:张振兴  谢二庆  潘孝军  贾璐  韩卫华
作者单位:兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
摘    要:采用直流磁控溅射技术制备了Si衬底上的非晶GaN薄膜.GaN肖特基二极管伏安曲线不能简单地用包含串联电阻和复合电流效应的热电子发射理论来解释,其他电流输运机制(空间电荷限制电流)起主要作用.分析数据得到平衡时的电子浓度为1.1×104cm-3和位于Ec-0.363eV的陷阱能级.测量空间电荷限制电流可以用来研究宽带隙化合物非晶半导体GaN的深能级性质.

关 键 词:非晶  GaN  空间电荷限制电流  缺陷
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