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蓝宝石衬底上单晶InAlGaN外延膜的RF-MBE生长
引用本文:王保柱,王晓亮,王晓燕,王新华,郭伦春,肖红领,王军喜,刘宏新,曾一平,李晋闽.蓝宝石衬底上单晶InAlGaN外延膜的RF-MBE生长[J].半导体学报,2006,27(8).
作者姓名:王保柱  王晓亮  王晓燕  王新华  郭伦春  肖红领  王军喜  刘宏新  曾一平  李晋闽
作者单位:中国科学院半导体研究所,北京,100083
基金项目:中国科学院知识创新工程项目,国家重点基础研究发展计划(973计划),国家高技术研究发展计划(863计划),国家自然科学基金
摘    要:利用射频等离子体辅助分子束外延技术在蓝宝石衬底上外延了晶体质量较好的单晶InAlGaN薄膜.在生长InAlGaN外延层时,获得了外延膜的二维生长.卢瑟福背散射测量结果表明,InAlGaN外延层中In,Al和Ga的组分分别为2%,22%和76%,并且元素的深度分布比较均匀.InAlGaN(0002)三晶X射线衍射摇摆曲线的半高宽为4.8′.通过原子力显微镜观察外延膜表面存在小山丘状的突起和一些小坑,测量得到外延膜表面的均方根粗糙度为2.2nm.利用光电导谱测量InAlGaN的带隙为3.76eV.

关 键 词:RF-MBE  铟铝镓氮  RHEED  XRD  AFM

RF-MBE Growth of InAlGaN Epilayer on Sapphire Substrate
Wang Baozhu,Wang Xiaoliang,Wang Xiaoyan,Wang Xinhua,Guo Lunchun,Xiao Hongling,Wang Junxi,Liu Hongxin,Zeng Yiping,Li Jinmin.RF-MBE Growth of InAlGaN Epilayer on Sapphire Substrate[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(8).
Authors:Wang Baozhu  Wang Xiaoliang  Wang Xiaoyan  Wang Xinhua  Guo Lunchun  Xiao Hongling  Wang Junxi  Liu Hongxin  Zeng Yiping  Li Jinmin
Abstract:
Keywords:
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