| 离子束辅助沉积技术及其进展 |
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| 引用本文： | 傅永庆,朱晓东,徐可为,何家文. 离子束辅助沉积技术及其进展[J]. 材料科学与工程学报, 1996, 0(3) |
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| 作者姓名： | 傅永庆 朱晓东 徐可为 何家文 |
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| 作者单位： | 西安交通大学 |
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| 摘 要： | 本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理，主要工作特点，设备及主要影响因素。综述了利用该技术在制备各种新型膜层方面研究的新进展。并指出该技术的不足及未来发展方向。
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| 关 键 词： | 离子束辅助沉积，薄膜 |
Ion Beam Assisted Deposition Technique and its Development |
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| Fu Yongqing Zhu Xiaodong Xu Kewei He Jiawen Xian Jiaotong University,Xian. Ion Beam Assisted Deposition Technique and its Development[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 1996, 0(3) |
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| Authors: | Fu Yongqing Zhu Xiaodong Xu Kewei He Jiawen Xian Jiaotong University Xian |
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| Affiliation: | Fu Yongqing Zhu Xiaodong Xu Kewei He Jiawen Xian Jiaotong University,Xian 710048 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion beam assisted deposition(IBAD) Thin film |
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