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纳米氧化钨薄膜的制备方法及其性质研究
引用本文:张青龙,吴国友,朱华,沈毅.纳米氧化钨薄膜的制备方法及其性质研究[J].无机盐工业,2006,38(1):5-8.
作者姓名:张青龙  吴国友  朱华  沈毅
作者单位:中国地质大学材料科学与化学工程学院,湖北,武汉,430074
基金项目:中国地质大学校科研和教改项目
摘    要:综述了纳米氧化钨薄膜的各种制备方法:溶胶-凝胶法、溅射法、蒸发法、化学气相沉积法、阳极氧化法等,并比较了其优缺点;介绍了氧化钨薄膜的掺杂研究;对纳米氧化钨薄膜的电致变色、气敏特性等性质研究现状作了简要概述,提出了纳米氧化钨薄膜的发展前景。

关 键 词:氧化钨  薄膜  钨酸盐
文章编号:1006-4990(2006)01-0005-04
收稿时间:2005-09-08
修稿时间:2005年9月8日

Preparation and property of nanometric WO3 thin films
Zhang Qinglong,Wu Guoyou,Zhu Hua,Shen Yi.Preparation and property of nanometric WO3 thin films[J].Inorganic Chemicals Industry,2006,38(1):5-8.
Authors:Zhang Qinglong  Wu Guoyou  Zhu Hua  Shen Yi
Abstract:The several methods for the preperation of nanometric WO3 thin film, such as sol - gel method, sputtering method ,evaporation method, chemical vapor precipitation method and anode oxidation method etc. are reviewed. And their advantages and disadvantages are compared. The doping of WO3 thin film is introduced. The study status on electric metachromatism and gas sensibility of nanometric WO3 thin film is briefly described. The developing trends of nanometric film are also put forward.
Keywords:WO3  thin films  tungstate
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