| 调制比对TiN/Ti多层膜结构和力学性能的影响 |
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| 引用本文： | 肖娜,杜菲菲,杨波.调制比对TiN/Ti多层膜结构和力学性能的影响[J].材料与冶金学报,2014(4). |
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| 作者姓名： | 肖娜 杜菲菲 杨波 |
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| 作者单位： | 东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室;东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室; |
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| 基金项目： | 中央高校基本科研业务费(N120309001);教育部科学技术研究重大项目(313014) |
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| 摘 要： | 采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积(TiN/Ti)n多层膜,交替沉积Ti层和TiN层,以通入/关闭氮气实现对TiN含量的控制.共溅射10层,每层TiN膜和Ti膜的厚度之和即调制周期不变,二者之间的厚度比即调制比分别为1∶9、1∶5、1∶3和1∶2.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着调制比的增大,TiN(200)逐渐消失,出现Ti2N等新相;硬度、结合力有明显增大的趋势,与单层膜相比,多层膜的硬度和结合力最多分别增加250 HV和22 N.
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| 关 键 词： | 反应磁控溅射 TiN/Ti 调制比 结合力 |
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