广达研发设计中心 |
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作者姓名: | 大元联合建筑师事务所 |
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作者单位: | 大元联合建筑师事务所 |
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摘 要: | 广达研发中心坐落于林口华亚科技园区,基地面积约28ha.业主投下巨资计划兴建一座地下三层地上七层.足以代表企业高科技形象.并可容纳5000位研究人员与设备的综合性研发及训练中心.以满足企业未来发展扩充之需求。另外为延续广达计算机长久以来对人文艺术活动之支持与关怀,本案也将包括一座专门收藏有关科技发展史之科技博物馆,开放供一般大众参观。
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关 键 词: | 研发中心 设计中心 科技博物馆 科技发展史 科技园区 训练中心 研究人员 艺术活动 高科技 |
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