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红外焦平面阵列非均匀校正算法的ASIC设计
引用本文:杜洪华,张萌,肖鹏. 红外焦平面阵列非均匀校正算法的ASIC设计[J]. 现代电子技术, 2008, 31(2): 142-144
作者姓名:杜洪华  张萌  肖鹏
作者单位:东南大学,国家专用集成电路系统工程技术研究中心,江苏,南京,210096
摘    要:红外焦平面阵列响应率的非均匀性是制约红外成像质量的主要因素.考虑实时处理的需要,基于温度定标两点校正法,进行ASIC设计.在阐述芯片结构基础上介绍各种模式功能.ASIC设计具有实时性好、体积小、性价比高的优点,适用于红外成像系统进行高速实时处理.最后给出在具有自主知识产权SoC芯片Garifield4上的算法验证结果.

关 键 词:红外焦平面阵列  非均匀性校正  ASIC  两点法  红外焦平面阵列  非均匀性  校正算法  ASIC  设计  Correction Algorithm  Nonuniformity  IRFPA  结果  算法验证  知识产权  红外成像系统  性价比高  体积  实时性  模式功能  结构基础  芯片  阐述  两点校正法
文章编号:1004-373X(2008)02-142-03
收稿时间:2007-07-02
修稿时间:2007-07-02

Design of IRFPA Nonuniformity Correction Algorithm Using ASIC
DU Honghua,ZHANG Meng,XIAO Peng. Design of IRFPA Nonuniformity Correction Algorithm Using ASIC[J]. Modern Electronic Technique, 2008, 31(2): 142-144
Authors:DU Honghua  ZHANG Meng  XIAO Peng
Abstract:
Keywords:IRFPA   non - uniformity correction    ASIC    two - point method
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
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