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| 超纯水设备中的反渗透膜 | |
| 引用本文： | 莫庆时.超纯水设备中的反渗透膜[J].半导体技术,1986(5). |
| 作者姓名： | 莫庆时 |
| 作者单位： | 广州半导体材料研究所 |
| 摘 要： | 随着半导体器件、集成电路及半导体材料生产的发展,对所使用的纯水的水质要求越来越高.它对微粒、细菌、总有机碳等有害杂质的控制极其严格,要求水质接近理论纯,水的电阻率达18MΩ·cm.国内外把这种高质量的纯水称为超纯水.七十年代国外在超纯水制备中采用了反渗透技术,并辅以离子交换、微过滤、紫外杀菌等方法,使超纯水的质量水平有很大的提高,有力地保证了集成电路工业发展的需要. |
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