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| 闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述 | |
| 引用本文： | 巩中宣.闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述[J].内燃机与配件,2013(1):19-21,24. |
| 作者姓名： | 巩中宣 |
| 作者单位： | 浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司 |
| 摘 要： | 1前言世界表面处理技术的发展过程(见图1)。电弧离子镀真空蒸发镀磁控溅射离子镀磁控溅射等离子体激光热处渗氮/渗电镀化学气相沉热喷涂物理气相沉积图12磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子 |
Closed Field Unbalanced Magnetron Sputter Ion Plating (CFUMSIP) |
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