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| 沉积速率对EB-PVD Ni-Cr薄膜表面形貌的影响 | |
| 引用本文： | 单英春,赫晓东,徐久军,李明伟. 沉积速率对EB-PVD Ni-Cr薄膜表面形貌的影响[J]. 功能材料, 2007, 38(2): 249-252 |
| 作者姓名： | 单英春 赫晓东 徐久军 李明伟 |
| 作者单位： | 1. 大连海事大学,机电与材料工程学院,辽宁,大连,116026 2. 哈尔滨工业大学,复合材料与结构研究所,黑龙江,哈尔滨,150080 3. 哈尔滨工业大学,复合材料与结构研究所,黑龙江,哈尔滨,150080;成都飞机设计研究所,四川,成都,610041 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) , 教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
| 摘 要： | 采用动态蒙特卡罗(KMC)方法模拟电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备Ni-Cr合金薄膜过程中沉积速率与薄膜微观结构之间的关系,并用分维理论研究薄膜表面形貌.研究结果表明:对于基板温度为500K,入射角度为35°的情况,沉积速率＜5μm/min时,薄膜表面分维均＜2.04,表面光滑,而当沉积速率＞5μm/min时薄膜分维随沉积速率增大而增大,表面变得越来越粗糙,直到沉积速率升高到1000μm/min时,分维达到最大值2.31,表面非常粗糙,具有细致的皱褶和缺陷.分维与沉积速率间的关系说明低沉积速率有利于分维小、表面光滑薄膜的制备,而高沉积速率使薄膜分维增大、表面结构更加复杂.该研究结果与沉积速率对EB-PVD薄膜表面粗糙度影响的研究结果一致,表明分维也是评价薄膜表面形貌的途径. |
| 关 键 词： | 分维 沉积速率 Ni—Cr合金薄膜 EB-PVD KMC |
| 文章编号： | 1001-9731(2007)02-0249-03 |
| 修稿时间： | 2006-08-07 |
Effects of deposition rate on surface topography of Ni-Cr thin film deposited by EB-PVD |
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| SHAN Ying-chun,HE Xiao-dong,XU Jiu-jun,LI Ming-wei. Effects of deposition rate on surface topography of Ni-Cr thin film deposited by EB-PVD[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(2): 249-252 | |
| Authors: | SHAN Ying-chun HE Xiao-dong XU Jiu-jun LI Ming-wei |
| Abstract: | |
| Keywords: | fractal deposition rate Ni-Cr alloy thin film EB-PVD KMC |
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