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UHPLC-QTOF-MS高效检测CL-20合成过程的杂质(英)
引用本文:苏鹏飞,鄂秀天凤,马婷婷,胡银,王民昌,张皋,孟子晖.UHPLC-QTOF-MS高效检测CL-20合成过程的杂质(英)[J].含能材料,2023,31(7):688-698.
作者姓名:苏鹏飞  鄂秀天凤  马婷婷  胡银  王民昌  张皋  孟子晖
作者单位:北京理工大学化学与化工学院,北京 100081;西安近代化学研究所,西安 710065,北京理工大学化学与化工学院,北京 100081,北京理工大学化学与化工学院,北京 100081,北京理工大学化学与化工学院,北京 100081;西安近代化学研究所,西安 710065,北京理工大学化学与化工学院,北京 100081;西安近代化学研究所,西安 710065,西安近代化学研究所,西安 710065,西安近代化学研究所,西安 710065;北京理工大学长三角研究院,嘉兴 314003
基金项目:国家自然科学基金资助(22105024)
摘    要:为了快速准确检测和分析六硝基六氮杂异伍兹烷(CL-20)合成过程中产生的中间体和杂质,控制CL-20纯度或品质,保证其感度及爆轰性能,采用核磁共振(NMR)和超高高效液相色谱-四极杆飞行时间质谱(UHPLC-QTOF-MS)技术快速、高效分析检测了CL-20典型合成工艺过程中组分及杂质。结果表明,六苄基六氮杂异伍兹烷(HBIW)中的杂质为1,3-二苄基咪唑,四乙酰基二苄基六氮杂异伍兹烷(TADB)中的杂质为低酰基化的三乙酰基三苄基六氮杂异伍兹烷(TATB),四乙酰基六氮杂异伍兹烷(TAIW)中的杂质为未完全反应的TADB,CL-20中的杂质为未完全硝化的一乙酰基五硝基六氮杂异伍兹烷(MPIW)和二乙酰基四硝基六氮杂异伍兹烷(DATN)。

关 键 词:CL-20  中间体  杂质  UHPLC-QTOF-MS  NMR
收稿时间:2023/4/4 0:00:00
修稿时间:2023/6/30 0:00:00

UHPLC-QTOF-MS High Efficiency Eetectionof Impurities in a Typical CL-20 Synthesis Process
SU Peng-fei,E Xiu-tian-feng,Ma Ting-ting,HU Yin,WANG Min-chang,ZHANG Gao and MENG Zi-hui.UHPLC-QTOF-MS High Efficiency Eetectionof Impurities in a Typical CL-20 Synthesis Process[J].Chinese Journal of Energetic Materials,2023,31(7):688-698.
Authors:SU Peng-fei  E Xiu-tian-feng  Ma Ting-ting  HU Yin  WANG Min-chang  ZHANG Gao and MENG Zi-hui
Abstract:
Keywords:CL-20  intermediates  impurities  UHPLC-QTOF-MS  NMR
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