等离子体净化工艺对覆膜阴极性能的影响

覆膜阴极因其优异的性能在很多领域具有广泛的应用。本文介绍了覆锇膜阴极预处理过程中增加气体辉光放电环节，实现等离子体净化阴极表面的工艺。通过二极管形式测试，发现等离子体净化使得覆锇膜阴极电子发射性能有大幅提升，对比了不同气体类型和放电时长的处理对阴极发射改善的差异，结果表明，氙气放电持续20 min可以达到较好的净化效果，继续增加放电时间发射提升不明显。本研究为真空电子器件的洁净制备提供了参考依据。