| K4体系KTP晶体的制备及其性能研究 |
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| 引用本文： | 葛世艳,师瑞泽,肖亚波,李祯,张杰,姜秀丽,王立弟.K4体系KTP晶体的制备及其性能研究[J].硅酸盐通报,2011,30(5):1072-1076. |
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| 作者姓名： | 葛世艳 师瑞泽 肖亚波 李祯 张杰 姜秀丽 王立弟 |
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| 作者单位： | 烁光特晶科技有限公司,北京,100018 |
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| 摘 要： | 本文选用K4P2O7助溶剂体系生长KTP晶体,所生长的晶体具有低吸收率和蓝、绿光波段抗灰迹性能,确定其最佳生长配比为KTP/K4 =0.8 mol/mol,测定其饱和点为850℃左右,从饱和点缓慢降温到820℃所生长晶体质量最佳,并对其进行了PCI抗灰迹吸收测试、倍频效率测试、电导率测试.结果表明:在同样原料纯度的情况下,吸收系数只有普通K6体系KTP晶体的十几分之一；1064 nm调Q到绿光的转化效率为61.8％(普通KTP转化效率为50％)；在1 kV直流长时间加压条件下,Z向电导率达到10-10S/cm量级,较普通K6体系生长的KTP晶体低2～3个数量级.
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| 关 键 词： | 磷酸氧钛钾 抗灰迹 K4P2O7助溶剂 |
Research on Preparation and Properties of KTP Crystal Grown from K4 Flux System |
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| GE Shi-yan,SHI Rui-ze,XIAO Ya-bo,LI Zhen,ZHANG Jie,JIANG Xiu-li,WANG Li-di.Research on Preparation and Properties of KTP Crystal Grown from K4 Flux System[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2011,30(5):1072-1076. |
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| Authors: | GE Shi-yan SHI Rui-ze XIAO Ya-bo LI Zhen ZHANG Jie JIANG Xiu-li WANG Li-di |
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| Affiliation: | GE Shi-yan,SHI Rui-ze,XIAO Ya-bo,LI Zhen,ZHANG Jie,JIANG Xiu-li,WANG Li-di(Bright Crystals Technology Inc.,Beijing 100018,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | KTP GTR K4 flux system |
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