| 射频反应溅射(Al,Ti)N涂层的微结构与力学性能 |
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| 作者姓名： | 赵文济 梅芳华 董云杉 李戈扬 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
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| 摘 要： | 采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能,研究了氮分压对涂层的影响.结果表明,氮分压对(Al,Ti)N涂层影响显著:合适的氮分压可以得到化学计量比的(Al,Ti)N涂层,涂层为单相组织,并呈现(111)择优取向,最高硬度和弹性模量分别达到36.9GPa和476GPa.过低的氮分压不但会造成涂层贫氮,而且涂层中的Al含量偏低,硬度不高.氮分压过高,由于存在"靶中毒"现象,尽管涂层的成分无明显变化,但会大大降低其沉积速率,并使涂层形成纳米晶或非晶态结构,涂层的硬度也较低.
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| 关 键 词： | (Al,Ti)N涂层 反应溅射 微结构 力学性能 |
| 文章编号： | 1001-4381(2005)09-0048-05 |
| 收稿时间： | 2005-02-21 |
| 修稿时间： | 2005-08-02 |
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