| 基于Kahan方法的磁流变抛光凸元件几何特性分析北大核心CSCD |
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| 引用本文： | 杨航,佘娜,张云飞,黄文,贾阳.基于Kahan方法的磁流变抛光凸元件几何特性分析北大核心CSCD[J].激光与红外,2022,52(2):266-272. |
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| 作者姓名： | 杨航 佘娜 张云飞 黄文 贾阳 |
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| 作者单位： | 遵义师范学院工学院,贵州 遵义,563006,中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川 绵阳,621900,华中光电技术研究所 武汉光电国家实验室,湖北 武汉,430073 |
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| 基金项目： | 国家“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项“巨型激光装置光学元件超精密制造系统示范工程”课题资助(2017ZX04022001)； |
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| 摘 要： | 凸光学元件在磁流变抛光区域的几何特性对制造高精度、高表面完整性光学元件有重要影响,凸光学元件曲率、嵌入深度与角度的变化将引起磁流变抛光区域压力场的变化。为了研究凸光学元件不同的曲率、嵌入深度与嵌入角度下抛光区域的压力场,首先通过建立磁流变抛光过程中压力模型,对抛光区域的压力进行分析;其次基于Kahan数值方法建立了多场耦合积分的快速计算方法。最后,计算凸光学元件在不同曲率、嵌入深度及角度下得到磁流变抛光区域压力场分布,研究凸元件在磁流变抛光区域受几何特性影响的工艺规律;得出结论:在磁流变抛光过程中通过改变凸光学元件曲率、相同曲率下的嵌入深度以及角度的情况下,当加工凸元件曲率增大时,磁流变抛光区域压力场会随之增大;当凸元件曲率一定、嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光区域压力场会增大;当凸元件曲率一定、嵌入角度增加时,磁流变抛光区域压力场会随角度先增大再减小。
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| 关 键 词： | Kahan方法 磁流变抛光 压力场 凸光学元件 几何特性 |
| 修稿时间： | 2021/6/22 0:00:00 |
Analysis of geometric characteristics of magnetorheological polishing convex elements based on Kahan method |
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| YANG Hang,SHE N,ZHANG Yun-fei,HUANG Wen,JIA Yang.Analysis of geometric characteristics of magnetorheological polishing convex elements based on Kahan method[J].Laser & Infrared,2022,52(2):266-272. |
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| Authors: | YANG Hang SHE N ZHANG Yun-fei HUANG Wen JIA Yang |
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