|
|||||
|
|
| 激励剪切振动模式的ZnO压电薄膜的研制 | |
| 作者姓名： | 晏光华 陈运祥 |
| 作者单位： | 四川压电与声光技术研究所(晏光华)，四川压电与声光技术研究所(陈运祥) |
| 摘 要： | 本文介绍用于激励剪切振动模式的ZnO压电薄膜的制备方法、性能及应用前景.采用辅助阳极环,改变基片角度等的RF平面磁控溅射技术,在低气压、高速率的溅射条件下,制备出了c轴偏离基片法线40°,声速为2830m/s,机电耦合系数达到29—32%的ZnO压电薄膜.为制作微波复合谐振器和微波声换能器提供了性能优良的新型压电薄膜材料. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |