| 低压反应离子镀等离子源的研制 |
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| 引用本文： | 司磊,王纪武,龙兴武.低压反应离子镀等离子源的研制[J].真空,2000(2):26-29. |
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| 作者姓名： | 司磊 王纪武 龙兴武 |
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| 作者单位： | 司磊（国防科技大学应用物理系，湖南 长沙
410073）
王纪武（国防科技大学应用物理系，湖南 长沙 410073）
龙兴武（国防科技大学应用物理系，湖南 长沙 410073） |
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| 摘 要： | 自动研制了一台用于低压反应离子镀的以硼化镧（ＬａＢ６）材料作阴极发射体的等离子源。介绍了该设备的工作原理，给出了设计参数的选择依据和具体结构形式，测量了放电电流与阴极加热功率、偏置电压、气体流量、励磁线圈电流的关系。该设备已与国产箱式真空镀膜机联调成功。
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| 关 键 词： | 低压反应离子镀 等离子源 硼化镧 光学薄膜制备 |
| 文章编号： | 1002-0322(2000)02-0026-04 |
| 修稿时间： | 1999-11-04 |
Plasma Ion Source for Low
Voltage Reactive Ion Plating |
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| SI Lei , WANG Ji-wu ,LONG Xing-wu.Plasma Ion Source for Low
Voltage Reactive Ion Plating[J].Vacuum,2000(2):26-29. |
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| Authors: | SI Lei WANG Ji-wu LONG Xing-wu |
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| Affiliation: | SI Lei , WANG Ji-wu ,LONG Xing-wu
(Department of Applied Physics, National University of De fence Technology, Changsha
410073, China) |
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| Abstract: | A plasma ion source for low voltage reactive ion plating with LaB 6 thermionic cathode is developed. We discuss the principle of how it works, give the foundation of determining parameters of the plasma ion source and practical structure, obtain the relationship curve of current intensity with cathode power, voltage, gas flux and excitaion current. Finally, the plasma ion source is successfuly applied in Chinese box vacuum evaporation machine. |
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| Keywords: | Low voltage reactive ion plating plasma ion source LaB_6 |
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