| Ti-Si-N纳米复合薄膜的结构与性能 |
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| 引用本文： | 牛新平 马大衍 马胜利 徐可为. Ti-Si-N纳米复合薄膜的结构与性能[J]. 稀有金属材料与工程, 2005, 34(11): 1751-1753 |
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| 作者姓名： | 牛新平 马大衍 马胜利 徐可为 |
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| 作者单位： | 西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目，国家自然科学基金，科技部科研项目，教育部新世纪优秀人才支持计划 |
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| 摘 要： | 用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术,在高速钢(W18Cr4V)表面沉积了Ti-Si-N复合薄膜,研究了Ti-Si-N复合薄膜的微观组织和力学性能.结果显示,薄膜相结构为纳米晶TiN和纳米晶或非晶TiSi2以及非晶相Si3N4;在Si含量为5.0 at%～28.0 at%范围内,薄膜的晶粒尺寸逐渐变大;Ti-Si-N薄膜的显微硬度相对于TiN有明显增加,最高硬度可达40 GPa;高温退火后,Ti-Si-N纳米复合薄膜的显微硬度与晶粒尺寸在800℃高温下仍然保持稳定.
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| 关 键 词： | 纳米复合薄膜 晶粒尺寸 显微硬度 |
| 文章编号： | 1002-185X(2005)11-1751-03 |
| 收稿时间： | 2003-12-10 |
| 修稿时间： | 2005-06-03 |
Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD |
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| Niu Xinping,Ma Dayan,Ma Shengli,Xu Kewei. Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2005, 34(11): 1751-1753 |
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| Authors: | Niu Xinping Ma Dayan Ma Shengli Xu Kewei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ti-Si-N |
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