| SnO2薄膜的脉冲激光沉积 |
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| 引用本文： | 张兵临,覃东杰,徐彬,李运钧,张兰. SnO2薄膜的脉冲激光沉积[J]. 光电子．激光, 1995, 6(1): 39-42 |
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| 作者姓名： | 张兵临 覃东杰 徐彬 李运钧 张兰 |
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| 作者单位： | 郑州大学物理系及河南省基础及应用科学研究所，郑州工学院机械系，中国科学院长春光机所，中国科学院安徽光机所 |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积技术制备了ＳｎＯ２薄膜。Ｘ射线衍射结构分析表明薄膜为非晶态。在６００℃温度下退火后，由非晶薄膜转变为多晶薄膜。研究了多晶ＳｎＯ２薄膜的光电特性。在４００ｎｍ至７００ｎｍ的可见光范围内，其透过率保持在７０％到９０％。电阻率为１．９×１０－１Ωｃｍ。
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| 关 键 词： | SnO2 薄膜 脉冲激光沉积 |
Pulsed Laser Deposition of SnO_2 Thin Films |
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| Zhang Binglin,Tan Dongjie,Yang Bin,Li Yunjun. Pulsed Laser Deposition of SnO_2 Thin Films[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 1995, 6(1): 39-42 |
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| Authors: | Zhang Binglin Tan Dongjie Yang Bin Li Yunjun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulsed laser deposition amorphous thin film polycrystalline thin film. |
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