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| 技术动态 | |
| 摘 要： | 德州仪器发布45纳米半导体制造工艺德州仪器(TI)发布了45纳米(nm)半导体制造工艺的细节,该工艺采用湿法光刻技术,可使每个硅片的芯片产出数量提高一倍,从而提高了工艺性能并降低了功耗。通过采用多种专有技术,TI将集成数百万晶体管的片上系统处理器的功能提升到新的水平,使性能提高30％,并同时降低 40％的功耗。 |
| 关 键 词： | 技术动态 半导体制造工艺 德州仪器 光刻技术 工艺性能 专有技术 片上系统 处理器 晶体管 纳米 |
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