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| 沉积气压对MW—PCVD制备金刚石薄膜的影响 | |
| 引用本文： | 俞世吉,邬钦崇.沉积气压对MW—PCVD制备金刚石薄膜的影响[J].真空与低温,1998,4(1):26-29. |
| 作者姓名： | 俞世吉 邬钦崇 |
| 作者单位： | 中国科学院等离子体物理研究所 |
| 摘 要： | 利用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积（ＭＷ－ＰＣＶＤ）实验装置研究了不同沉积气压对金刚石薄膜沉积结果的影响。扫描电子显微镜（ＳＥＭ）显微形貌观察及喇曼光谱（ＲＡＭＡＮ）分析表明沉积气压的提高有利于改善ＭＷ－ＰＣＶＤ制备金刚石薄膜的质量。 |
| 关 键 词： | 微波等离子体化学气相沉积 金刚石薄膜 沉积气压 |
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