首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磷予淀积中杂质分布的工艺控制
作者姓名:何维华
作者单位:北京半导体器件研究所
摘    要:本文通过磷表面浓度,磷结深度和磷源与磷分布之间联系的建立,揭示在磷扩的工艺控制中扩散温度、扩散时间、通源量和气氛等工艺因素对杂质分布的作用。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号