| 微扰和标定技术测量薄膜微波介电常数 |
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| 引用本文： | 董树荣,王德苗,金浩.微扰和标定技术测量薄膜微波介电常数[J].真空科学与技术学报,2006,26(Z1):20-22. |
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| 作者姓名： | 董树荣 王德苗 金浩 |
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| 作者单位： | 浙江大学信息学院信电系,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 提出了一种测量介质薄膜微波段介电常数的方法.该方法基于金属空腔谐振器微扰理论,用已知介电常数的基片作为标样,标定测量系统的有关参数,然后分别测量空腔、基片插入空腔、镀有介质薄膜的基片插入空腔三种情况下的谐振腔谐振频率,计算出镀覆于基片上介质薄膜的微波复介电常数.本文SiO2和MgTiO3-CaTiO3(MCT)介质陶瓷薄膜作了实验测量验证,结果表明该方法具有良好的测量精度(小于6%).
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| 关 键 词： | 介质薄膜 介电常数 测量 谐振腔 微扰 |
| 文章编号： | 1672-7126(2006)增-0020-03 |
| 修稿时间： | 2005年9月1日 |
Newly Developed Technique for Permittivity Measurement of Thin Film by Perturbation |
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| Dong Shurong,Wang Demiao,Jin Hao.Newly Developed Technique for Permittivity Measurement of Thin Film by Perturbation[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(Z1):20-22. |
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| Authors: | Dong Shurong Wang Demiao Jin Hao |
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