粉末靶磁控溅射制备F掺杂SnO2薄膜的结构及光学性能 |
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作者姓名: | 宁洁 周艳文 樊子铭 |
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作者单位: | 辽宁科技大学材料与冶金学院; |
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基金项目: | 国家自然科学基金(51172101,51372109);辽宁省高等学校优秀人才支持计划(LR2012009)资助 |
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摘 要: | 采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外,其他FTO可见光区平均透光率可达90%。
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关 键 词: | 磁控溅射 二氧化锡 结构 光学性能 粉末靶 |
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