|
|||||
|
|
| 粉末靶磁控溅射制备F掺杂SnO2薄膜的结构及光学性能 | |
| 引用本文： | 宁洁,周艳文,樊子铭.粉末靶磁控溅射制备F掺杂SnO2薄膜的结构及光学性能[J].材料保护,2014(Z1):35-38. |
| 作者姓名： | 宁洁 周艳文 樊子铭 |
| 作者单位： | 辽宁科技大学材料与冶金学院; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(51172101,51372109);辽宁省高等学校优秀人才支持计划(LR2012009)资助 |
| 摘 要： | 采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外,其他FTO可见光区平均透光率可达90%。 |
| 关 键 词： | 磁控溅射 二氧化锡 结构 光学性能 粉末靶 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |