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杂志ISSN号
磁控溅射工艺参数对ZAO薄膜性能的影响
作者姓名:
刘沅东
张宁
汤清琼
余新平
张至树
作者单位:
北京四方继保自动化股份有限公司;
摘 要:
通过磁控溅射氧化铝锌陶瓷靶材的方法在玻璃基片上制备ZAO薄膜,研究了溅射电流、溅射气压、基片温度对ZAO膜电学及光学性能的影响,使用X射线衍射仪分析了薄膜相结构,使用台阶仪测试薄膜厚度,使用四探针方阻仪测试薄膜电阻率,采用紫外可见分光光度计测试薄膜透过率。结果表明:溅射电流增加可以改善ZAO薄膜的透过率与电阻率;溅射气压对薄膜的结晶性和透过率影响不大,但电阻率会随溅射气压的增大而上升;基体温度升高可以提高AZO薄膜的透过率与电导率。
关 键 词:
磁控溅射
ZAO薄膜
工艺参数
电阻率
透过率
结晶性能
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