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| 基于空间光调制器的并行微纳光刻技术研究进展 | |
| 作者姓名： | 匡珺洁 罗宁宁 张静雅 王岩磊 熊鑫 孟庆旺 |
| 作者单位： | 1. 南昌航空大学江西省光电信息科学与技术重点实验室;2. 南昌航空大学江西省光电检测技术工程实验室 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（61464008,61704070）； |
| 摘 要： | 并行微纳光刻技术是实现微结构快速制造的重要技术手段。在简要介绍并行微纳光刻技术原理和优势的基础上，重点对基于空间光调制器的并行微纳光刻技术进行了分析和论述。按照对入射光场的调制作用，分多焦点和投影并行微纳光刻两类综述了其技术原理和研究进展。最后对两类基于空间光调制器的并行微纳光刻技术的现状及存在问题进行了归纳总结，并对它们的发展前景进行了展望。 |
| 关 键 词： | 并行微纳光刻 微结构 空间光调制器 多焦点 投影并行 |