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镉离子印迹硅胶的制备与吸附性能
引用本文:陈美希,曹晓晴,余自友,张岗,范洪涛,孙挺.镉离子印迹硅胶的制备与吸附性能[J].高分子材料科学与工程,2012(8):163-166.
作者姓名:陈美希  曹晓晴  余自友  张岗  范洪涛  孙挺
作者单位:东北大学化学系;沈阳化工大学应用化学学院
基金项目:国家青年科学基金(21107076);辽宁省博士科研启动基金(20111048)
摘    要:采用表面印迹技术和溶胶-凝胶法,以Cd(Ⅱ)离子作为印迹离子,硫氰基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物(IIP-TCPTS/SiO2),并利用平衡吸附法研究了聚合物吸附性能和选择识别能力。结果表明,最大吸附量为16.7 mg/g;20 min即可达到吸附平衡;当pH值在5.4~7.8范围内,印迹聚合物保持了较好的吸附容量;印迹聚合物对Cd(Ⅱ)离子具有较强的选择性识别能力;重复使用时性能稳定。

关 键 词:  溶胶-凝胶  硫氰基丙基三甲氧基硅烷  离子印迹
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