| 一种新型电子束曝光文件格式设计及其应用 |
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| 引用本文： | 李晓娜,张今朝,刘伟,孙红三,韩立.一种新型电子束曝光文件格式设计及其应用[J].微细加工技术,2005(2):24-27,45. |
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| 作者姓名： | 李晓娜 张今朝 刘伟 孙红三 韩立 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080
2. 清华大学,北京,100084 |
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| 摘 要： | 提出一种新型的电子束曝光数据格式，引入了面向对象的设计和适应于矢量型电子束扫描方式的设计，提高了对通用图形数据格式转换的精确度和效率，同时更便于对电子束曝光机的曝光控制。该设计已在电工所的科研项目“纳米级电子束曝光系统”中得到应用，被称之为EDF数据格式。
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| 关 键 词： | 电子束曝光机 数据格式转换 面向对象的设计 矢量型电子束扫描 |
| 文章编号： | 1003-8213(2005)02-0024-04 |
Design of a File Format for E-beam Lithography and Its Application |
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| LI Xiao-na,ZHANG Jin-zhao,LIU Wei,SUN Hong-san,HAN Li.Design of a File Format for E-beam Lithography and Its Application[J].Microfabrication Technology,2005(2):24-27,45. |
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| Authors: | LI Xiao-na ZHANG Jin-zhao LIU Wei SUN Hong-san HAN Li |
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| Affiliation: | LI Xiao-na1,ZHANG Jin-zhao1,LIU Wei1,SUN Hong-san2,HAN Li1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electron beamlithography data format conversion objected oriented design vector scanning electron beam |
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