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| 纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素 | |
| 引用本文： | 张勇,赵慧丽,朱彦军,赵程.纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素[J].热加工工艺,2008,37(16). |
| 作者姓名： | 张勇 赵慧丽 朱彦军 赵程 |
| 作者单位： | 1. 安阳工学院,机械工程系,河南,安阳,455000 2. 安阳鑫盛机床有限公司研发中心,河南,安阳,455000 3. 青岛科技 |
| 摘 要： | 利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理,对渗氮层的硬度、深度、组织结构以及收集粒子的形貌、结构等进行了分析研究.结果表明,电压较低时,Fe主要与O结合生成大量的氧化铁而不能进行ASPN处理,氧起主导作用;只有在电压较高、Fe与N的结合能力较强时才主要生成吸附大量活性氮原子的氮化铁进行ASPN处理. |
| 关 键 词： | 氧 纯氮 活性屏离子渗氮 |
Active Screen Plasma Nitriding Under Pure Nitrogen and Its Effecting Factors |
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| ZHANG Yong,ZHAO Huili,ZHU Yanjun,ZHAO Cheng.Active Screen Plasma Nitriding Under Pure Nitrogen and Its Effecting Factors[J].Hot Working Technology,2008,37(16). | |
| Authors: | ZHANG Yong ZHAO Huili ZHU Yanjun ZHAO Cheng |
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| Keywords: | |
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