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| 平面磁控溅射靶的磁场设计 | |
| 引用本文： | 范玉殿 ,王怡德 ,唐祥.平面磁控溅射靶的磁场设计[J].真空,1982(5). |
| 作者姓名： | 范玉殿 王怡德 唐祥 |
| 摘 要： | 磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术1]、2]、3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高速、低温、低损伤等优点。高速,是指淀积速率快;低温和低损伤,是指基片的温升低,损伤小。 磁控溅射之所以具有这些优点,关键在于阴极靶面上具有环状 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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