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| LOCOS(局域硅氧化工艺)一种用于静电电机的微加工工艺 | |
| 引用本文： | 黄庆安.LOCOS(局域硅氧化工艺)一种用于静电电机的微加工工艺[J].电子器件,1990(2). |
| 作者姓名： | 黄庆安 |
| 摘 要： | 本文给出了一种利用局域硅氧化工艺生产静电微米规模电机的新型工艺.这种电机的草图如(1)图所示,它基于五道掩膜工艺,简述如下,具有连续腐蚀到衬底的氮化硅层的淀积和光刻,硅的选择性氧化LOCOS,用于转子电刷的部分选择性氧化物的腐蚀,多晶硅的淀 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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