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高性能1mm AlGaN/GaN功率HEMTs研制
引用本文:邵刚,刘新宇,和致经,刘键,魏珂,陈晓娟,吴德馨,王晓亮,陈宏.高性能1mm AlGaN/GaN功率HEMTs研制[J].半导体学报,2005,26(1):88-91.
作者姓名:邵刚  刘新宇  和致经  刘键  魏珂  陈晓娟  吴德馨  王晓亮  陈宏
作者单位:[1]中国科学院微电子研究所,北京100029 [2]中国科学院半导体研究所,北京100083
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划);中国科学院知识创新工程项目
摘    要:报道了基于蓝宝石衬底的高性能1mm AlGaN/GaN HEMTs功率器件.为了提高微波功率器件性能,采用新的欧姆接触和新型空气桥方案.测试表明,器件电流密度为0.784A/mm,跨导197mS/mm,击穿电压大于40V,截止态漏电较小,1mm栅宽器件的单位截止频率达到20GHz,最大振荡频率为28GHz,功率增益为11dB,功率密度为1.2W/mm,PAE为32%,两端口阻抗特性显示了在微波应用中的良好潜力.

关 键 词:微波功率  单位截止频率
文章编号:0253-4177(2005)01-0088-04
修稿时间:2003年12月30日

Development of High Performance 1mm Gate Width AlGaN/GaN Power HEMTs
Shao Gang ,Liu Xinyu ,He Zhijing ,Liu Jian ,Wei Ke ,Chen Xiaojuan ,Wu Dexin ,Wang Xiaoliang ,and Chen Hong.Development of High Performance 1mm Gate Width AlGaN/GaN Power HEMTs[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(1):88-91.
Authors:Shao Gang  Liu Xinyu  He Zhijing  Liu Jian  Wei Ke  Chen Xiaojuan  Wu Dexin  Wang Xiaoliang  and Chen Hong
Affiliation:Shao Gang 1,Liu Xinyu 1,He Zhijing 1,Liu Jian 1,Wei Ke 1,Chen Xiaojuan 1,Wu Dexin 1,Wang Xiaoliang 2,and Chen Hong 3
Abstract:An high performance AlGaN/GaN power heterostructure field effect transistors(HEMTs) on sapphire substrate with total gate width 1mm is reported.New ohmic contact structure and air-bridge are employed to improve microwave power performance.A saturated current density of 0.784A/mm,a peak transconductance of 197mS/mm,a break-down voltage of up to 40V and a small leakage current under cut-off state are obtained.The 1mm gate width power device also displays a unit cutoff frequency(f T) of 20GHz and a maximum oscillation frequency f max of 28GHz,and also an output power 1.2W,a power gain 11dB,a PAE 32% in 2GHz.Port impedance characteristics show the potential for the applications of microwave field.
Keywords:AlGaN/GaN  HEMT
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