| 含二苯甲酮基的有机硅光引发体系 |
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| 引用本文： | 张先亮,王全.含二苯甲酮基的有机硅光引发体系[J].感光科学与光化学,1991,9(1):67-70. |
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| 作者姓名： | 张先亮 王全 |
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| 作者单位： | 武汉大学化学系，武汉大学化学系，星火化工厂 武汉 430027，武汉 430027，江西永修 330307 |
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| 摘 要： | 在UV照射下,用含巯基的有机硅化合物与聚甲基乙烯基硅氧烷加成硫化虽有专利报道,但该反应体系是以二苯甲酮类化合物作为光敏剂。当我们进行这方面研究时,发现二苯甲酮与有机硅氧烷预聚物相容性差,从而影响光加成反应的速度。为了改善光敏剂与有机硅预聚物的相容性,本文合成了具二苯甲酮基团的环状有机硅氧烷及其高聚物作为光敏剂。我们的合成路线是用硅氢加成反应,制备了文献没有报道的具二苯甲酮侧基的环状硅氧烷,然后将其与八甲基环四硅氧烷一起进行开环聚合,得到了具有二苯甲酮侧基的聚有机硅氧烷,其反应过程如下:
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| 关 键 词： | 二苯甲酮 光引发剂 硅氧烷 |
ORGANOSILICONE PHOTOINITIATORY SYSTEM CONTAINING BENZOPHENONE GROUP |
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| ZHANG XIAN-LIANG ZHUO REN-XI.ORGANOSILICONE PHOTOINITIATORY SYSTEM CONTAINING BENZOPHENONE GROUP[J].Photographic Science and Photochemistry,1991,9(1):67-70. |
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| Authors: | ZHANG XIAN-LIANG ZHUO REN-XI |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photoinitiator benzophenone siloxane photoaddition |
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