| 磁控溅射制备非晶态TiO2-V薄膜的光催化性能研究 |
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| 引用本文： | 黄佳木,蔡小平,赵培,李月霞.磁控溅射制备非晶态TiO2-V薄膜的光催化性能研究[J].真空科学与技术学报,2009,29(2). |
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| 作者姓名： | 黄佳木 蔡小平 赵培 李月霞 |
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| 作者单位： | 重庆大学材料科学与工程学院,重庆,400045 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备v掺杂非晶态TiO2薄膜,研究了射频掺杂功率、基片温度以及薄膜厚度等因素对薄膜光催化性能的影响.x射线衍射(XRD)及x光电子能谱(XPs)分析表明:薄膜为非晶态,薄膜主要成分为钛(Ti)和钒(V),其比例为8.7:l.光催化降解10mg/L的亚甲基蓝溶液实验表明:随着薄膜厚度的增加,光催化降解率递增,当厚度达129nm时,薄膜对亚甲基蓝的降解率为83.36%.
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| 关 键 词： | 非晶态TiO2-V薄膜 光催化 亚甲基蓝 磁控溅射 |
Photocatalytic Degradation of Amorphous TiO2-V films Grown by Magnetron Sputtering |
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| Huang Jiamu,Cai Xiaoping,Zhao Pei,Li Yuexia.Photocatalytic Degradation of Amorphous TiO2-V films Grown by Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2009,29(2). |
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| Authors: | Huang Jiamu Cai Xiaoping Zhao Pei Li Yuexia |
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