| 溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响 |
| |
| 引用本文： | 宋斌斌,于涛,张传升,李博研,李新连,郭凯,左宁,赵树利,陈颉. 溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响[J]. 材料导报, 2016, 30(16): 35-38, 59. DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.16.008 |
| |
| 作者姓名： | 宋斌斌 于涛 张传升 李博研 李新连 郭凯 左宁 赵树利 陈颉 |
| |
| 作者单位： | 北京低碳清洁能源研究所,北京102211;北京市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心,北京102211 |
| |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1~1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32~4.81nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2~11.7nm之间;溅射气压为0.2Pa和0.3Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 CIGS Mo背电极 溅射气压 形貌结构 |
Influence of Working Pressure on Morphologies and Microstructures of Magnetron Sputtered Mo Back Electrode |
| |
| SONG Binbin,YU Tao,ZHANG Chuansheng,LI Boyan,LI Xinlian,GUO Kai,ZUO Ning,ZHAO Shuli and CHEN Jie. Influence of Working Pressure on Morphologies and Microstructures of Magnetron Sputtered Mo Back Electrode[J]. Materials Review, 2016, 30(16): 35-38, 59. DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.16.008 |
| |
| Authors: | SONG Binbin YU Tao ZHANG Chuansheng LI Boyan LI Xinlian GUO Kai ZUO Ning ZHAO Shuli CHEN Jie |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | magnetron sputtering CIGS Mo back electrode sputtering pressure morphology and microstructure |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《材料导报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《材料导报》下载全文 |
|
