SO_2氧化用的现行接触设备最适温度制度的确定

带有绝热层触媒的接触设备的最适制度系根据波烈斯科夫所制定的方法确定的。在最适制度下,当每一个接触阶段结束和开始下一阶段,触媒的利用率均相同。此外,最后一些层的利用率应该比最初的要高。 在利用过程中触媒的活性有着下降的现象。因此,通常在设备内逐渐增加触媒的装入量。但是这种措施只能在局限的范围内进行,因为这样做流体阻力会增加,并使设备的生产能力降低。当触媒的活性降低1—2倍时,最初选定的接触设备的工艺制度就被破