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夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究
引用本文:商干兵,周勇,余先育,丁文,周志敏,曹莹.夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究[J].功能材料,2006,37(2):194-196,199.
作者姓名:商干兵  周勇  余先育  丁文  周志敏  曹莹
作者单位:上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030
基金项目:中国科学院资助项目 , 上海市科委资助项目 , 教育部科学技术研究项目
摘    要:采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1~40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应.纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小.在频率为5MHz时,Hext为0.8kA/m时巨磁阻抗效应最大值达到32.06%.另外,夹心结构多层膜表现出较大的负巨磁阻抗效应,在频率5MHz,Hext=9.6kA/m时,负最大巨磁阻抗效应可达-24.50%.

关 键 词:巨磁阻抗效应  夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜  MEMS技术
文章编号:1001-9731(2006)02-0194-03
收稿时间:2005-06-14
修稿时间:2005-06-142005-09-13

Giant magneto-impedance in sandwiched FeNi/Cu/FeNi films
SHANG Gan-bing,ZHOU Yong,YU Xian-yu,DING Wen,ZHOU Zhi-min,CAO Ying.Giant magneto-impedance in sandwiched FeNi/Cu/FeNi films[J].Journal of Functional Materials,2006,37(2):194-196,199.
Authors:SHANG Gan-bing  ZHOU Yong  YU Xian-yu  DING Wen  ZHOU Zhi-min  CAO Ying
Abstract:
Keywords:giant magneto-impedance  sandwiched FeNi/Cu/FeNi films  MEMS
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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