高纯钽及如溅射靶的含高纯钽的制品

本发明涉及高纯钽和舍有高纯钽的合金。钽金属优选具有至少99．995％的纯度，更优选具有至少99．999％的纯度。另外，本发明涉及钽金属及其舍金，这种钽金属及其合金具有约50微米或更低的粒度；或者具有这样的织构：任意5％厚度增量内，强度低于约15random或强度的对数比大于约一4．0；或者具有这些性质的任意组合。本发明同样涉及由钽金属制成的物品和元件，包括但不限于溅射靶、电容器外壳、电阻膜层、导线等。本发明还涉及制备高纯钽金属的方法，