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| 磁控溅射法制备WO3薄膜及其光学性质研究 | |
| 引用本文： | 杨晓红,王万录,康庆. 磁控溅射法制备WO3薄膜及其光学性质研究[J]. 中国机械工程, 2005, 16(Z1): 324-326 |
| 作者姓名： | 杨晓红 王万录 康庆 |
| 作者单位： | 1. 重庆大学,重庆,400044;重庆师范大学,重庆,400047 2. 重庆大学,重庆,400044 3. 重庆师范大学,重庆,400047 |
| 摘 要： | 采用DC磁控溅射的方法在玻璃基片上制备WO3薄膜,在不同温度条件下对薄膜进行退火处理;测量了不同氧分压下制备的薄膜在紫外到可见光范围内的透过率.实验表明,氧分压在75%左右条件下制备的薄膜具有较好的光学性能,退火温度在300℃左右可明显改变薄膜的光学性质. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 WO3薄膜 退火 光学性质 |
| 文章编号： | 1004-132X(2005)S1-0324-03 |
| 修稿时间： | 2005-03-28 |
Optics Study of WO3 Films by DC Sputtering |
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| Yang Xiaohong,Wang Wanlu,Kang Qing. Optics Study of WO3 Films by DC Sputtering[J]. China Mechanical Engineering, 2005, 16(Z1): 324-326 | |
| Authors: | Yang Xiaohong Wang Wanlu Kang Qing |
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| Keywords: | |
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