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| 薄膜的光化学气相沉积 | |
| 引用本文： | 彭英才.薄膜的光化学气相沉积[J].真空与低温,1991,10(2):20-27. |
| 作者姓名： | 彭英才 |
| 作者单位： | 河北大学电子系 071002 |
| 摘 要： | 光化学气相沉积(光 CVD)是一种继低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体化学气相沉积(PECVD)之后的又一项新的低温成膜工艺。首先介绍了光化学气相沉积的物理基础,然后重点介绍了光化学气相沉积的实验方法,最后简要介绍了光化学气相沉积在薄膜制备中的一些应用。 |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 薄膜 真空镀膜 |
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