通过介电胶膜将离子注入碲隔汞 |
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作者姓名: | 王淑云 |
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摘 要: | 对铟锡氧化物(ITO)和二氧化硅(SiO_2)作为碲镉汞(MCT)的胶膜的有效性作了研究。将不同厚度的ITO和SiO_2溅射到MCT样品上,然后用铝注入到样品上并用常规炉子进行退火。用卢瑟福背散射(RBS)实验研究表面因注入和退火引起的汞损失的情况。RBS结果并不表明在用介电胶膜注入期间所引起的汞的任何损失,而它的确表明,在退火期间是用SiO_2密封的样品丢失了汞而不是用ITO密封的样品丢失汞的。
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关 键 词: | 介电胶膜 介质膜 碲镉汞 离子注入 退火 |
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