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| 通过介电胶膜将离子注入碲隔汞 | |
| 引用本文： | 王淑云.通过介电胶膜将离子注入碲隔汞[J].红外与激光工程,1991(3). |
| 作者姓名： | 王淑云 |
| 摘 要： | 对铟锡氧化物(ITO)和二氧化硅(SiO_2)作为碲镉汞(MCT)的胶膜的有效性作了研究。将不同厚度的ITO和SiO_2溅射到MCT样品上,然后用铝注入到样品上并用常规炉子进行退火。用卢瑟福背散射(RBS)实验研究表面因注入和退火引起的汞损失的情况。RBS结果并不表明在用介电胶膜注入期间所引起的汞的任何损失,而它的确表明,在退火期间是用SiO_2密封的样品丢失了汞而不是用ITO密封的样品丢失汞的。 |
| 关 键 词： | 介电胶膜 介质膜 碲镉汞 离子注入 退火 |
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